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對(duì)于強(qiáng)烈彎曲、三維、微米或納米結(jié)構(gòu)的組件,原子層沉積(ALD) 技術(shù)特別適用。
原子層沉積的一個(gè)關(guān)鍵優(yōu)勢(shì)是層厚度和成分的精確控制。
HCVAC為來(lái)自行業(yè)和研究領(lǐng)域的客戶(hù)提供針對(duì)特定應(yīng)用的靈活解決方案。

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