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功能涂層設(shè)備

Product Center
真空應(yīng)用解決方案提供商
功能性薄膜涂層設(shè)備

匯成在PMA I 專利技術(shù)的基礎(chǔ)上,開發(fā)出PMA II 和EFC專利技術(shù),并成功的將PMA II 和EFC技術(shù)集成到新一代涂層系統(tǒng)上。該系統(tǒng)具有靈活的配置,可以與ARC、MS、HIPIMS等技術(shù)組合使用,為新涂層,新材料的開發(fā)提供更多的可能性,為刀具涂層、模具涂層、零部件涂層、DLC涂層、GLC涂層、ta-c涂層等提供完整的涂層方案。

小型多功能濺射涂層設(shè)備

支持從研發(fā)到小規(guī)模生產(chǎn)的負(fù)載鎖定式濺射涂層設(shè)備。

類金剛石DLC涂層設(shè)備

DLC涂層設(shè)備制備的DLC涂層(類金剛石涂層),具備質(zhì)量穩(wěn)定,與基體結(jié)合力好,耐磨性好,摩擦系數(shù)低,耐腐蝕性好等綜合優(yōu)良性能。廣泛應(yīng)用于發(fā)動(dòng)機(jī)零部件,有色金屬切削刀具,有色金屬及不銹鋼等成型沖壓模具,滑動(dòng)密封部件,半導(dǎo)體行業(yè)模具,注塑模具,紡織行業(yè)等。

HiPIMS濺射涂層系統(tǒng)

HiPIMS-800結(jié)合了經(jīng)典直流濺射鍍膜系統(tǒng)的所有優(yōu)點(diǎn)和最新的HiPIMS技術(shù)的能力。該系統(tǒng)共配備六個(gè)濺射陰極,其中四個(gè)可以在HIPIMS或DC模式下工作。另外兩個(gè)直流陰極可以操作,例如,提供更復(fù)雜的多層涂層,提供顏色和頂層涂層,或只是增加沉積速率。這些技術(shù)在一個(gè)過程中的絕對(duì)自由組合,以非常低的生產(chǎn)成本提供了有限的涂層設(shè)計(jì)范圍。

定制功能性涂層設(shè)備

針對(duì)每一個(gè)客戶,我們都量身訂做個(gè)性化涂層解決方案,并將其融入您已有的涂層設(shè)備中,以方便您利用已有的涂層設(shè)備和涂層系統(tǒng),將整套新的制造工藝與您的需求相結(jié)合,確保生產(chǎn)的快速和高效。

CVD人造鉆石培育系統(tǒng)

該系統(tǒng)通過微波等離子增加前驅(qū)體的反應(yīng)速率,降低反應(yīng)溫度。適合制備面積大、均勻性好、純度高、結(jié)晶形態(tài)好的高質(zhì)量硬質(zhì)薄膜和晶體。

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