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DLC類金剛石

低摩擦系數(shù)

減少摩擦損失

Low friction coefficient, reduce friction loss
真空應(yīng)用解決方案提供商
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Diamond like carbon (DLC) coating equipment 類金剛石DLC涂層設(shè)備

      該系列設(shè)備具備多種DLC涂層沉積技術(shù),模塊化的涂層設(shè)備設(shè)計,可根據(jù)客產(chǎn)品應(yīng)用需求,單獨(dú)或組合過濾陰極電弧,閉合場磁控濺射,PACVD和離子源技術(shù)模塊于DLC沉積設(shè)備,適用于多種科學(xué)研究,產(chǎn)品開發(fā)和批量生產(chǎn)的要求。技術(shù)先進(jìn),操作方便,能量消耗少,綠色環(huán)保等特點(diǎn),廣泛應(yīng)用于機(jī)械,電子,光學(xué),能源,裝飾等領(lǐng)域。

      HCVAC開發(fā)的DLC涂層,具有良好的附著性,高的硬度和耐磨性,低的摩擦系數(shù),低的表面粗糙度,能在多種金屬與合金工模具或零件表面沉積DLC涂層。獨(dú)特的低溫涂層技術(shù),還能適用于在塑膠等不耐高溫的材料上沉積DLC涂層。

      DLC涂層具有較高的硬度、優(yōu)異的減摩耐磨性能、高熱導(dǎo)率、低介 電常數(shù)、寬帶隙、良好的光學(xué)透過性以及優(yōu)異的化學(xué)惰性和生物兼容性等,在航空航天、機(jī)械、電子、光學(xué)、裝飾外觀保護(hù)、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域有著廣闊的應(yīng)用前景。DLC涂層適合于磨損和滑動的環(huán)境下,在沒有任何潤滑介質(zhì)的條件下,可以降低摩擦損耗,可以用于汽車發(fā)動機(jī)零部件(燃油噴射系統(tǒng)、動力傳動系統(tǒng))、軸承、滾輪、紡織機(jī)械、航空航天等眾多領(lǐng)域。

      DLC涂層設(shè)備制備的DLC涂層(類金剛石涂層),具備質(zhì)量穩(wěn)定,與基體結(jié)合力好,耐磨性好,摩擦系數(shù)低,耐腐蝕性好等綜合優(yōu)良性能。廣泛應(yīng)用于發(fā)動機(jī)零部件,有色金屬切削刀具,有色金屬及不銹鋼等成型沖壓模具,滑動密封部件,半導(dǎo)體行業(yè)模具,注塑模具,紡織行業(yè)等。

      針對不同的行業(yè),并根據(jù)客戶不同的要求及材料,我們運(yùn)用不同的工藝及制備方法,設(shè)計出相適應(yīng)的DLC涂層設(shè)備,以滿足客戶的需要。

DLC涂層特點(diǎn):
1、是一個很好的自潤滑塑料加工應(yīng)用涂層;
2、涂層特別致密,不起化學(xué)作用,沉積膜是1~3μm,硬度是2000HV~2500HV;
3、具有優(yōu)異的摩擦磨損性能,耐高溫350℃,并具有很高的耐粘接劑和磨粒磨損;
4、快速、可預(yù)見的脫模大大提高質(zhì)量和生產(chǎn)率,是PECVD涂層塑料加工的首選。


主要模塊
Arc HiPIMS
創(chuàng)新的APA蒸發(fā)器技術(shù)(先進(jìn)的等離子輔助)基于陰極真空電弧,為新的層結(jié)構(gòu)提供了多種開發(fā)可能性。
優(yōu)勢:
●靶材使用率高,降低靶材成本
●沉積率高
●磁場可調(diào)節(jié)
●靶材更換時間短
●等離子體密度高
●完美的涂層結(jié)合力
HiPIMS代表高功率脈沖磁控濺射。
優(yōu)勢:
●離化率高(類似于電弧法)
●高功率密度,從 100 到1000 W/cm2
●等離子密度非常高
●可以通過等離子參數(shù)設(shè)置來調(diào)節(jié)層結(jié)構(gòu)
●涂層非常光滑
●完美的涂層結(jié)合力
●在低基材溫度下沉積致密的涂層
其他模塊
濺射 氮化
在濺射工藝中,通過高能離子(Ar)轟擊靶材,分離成原子進(jìn)而轉(zhuǎn)化成氣相。通過結(jié)合濺射材料和其他氣體,將涂層沉積在基材上。
優(yōu)勢:
●可以濺射多種材料
●多種工藝變量可用
●光滑的涂層
●結(jié)合功率刻蝕工藝AEGD獲得好的涂層結(jié)合力
使用氮化模塊,可在同一個系統(tǒng)、同一個批次,在PVD和/或PACVD涂層工藝之前進(jìn)行等離子氮化工藝。由此生成一個硬化層,為后續(xù)的PVD/PACVD涂層提供完美的支撐。
優(yōu)勢:
●優(yōu)化工具和零部件屬性
●替代昂貴的基材
●顯著延長壽命
●可以應(yīng)用所有PVD涂層
DLC ta-C
DLC就是類金剛石涂層,指一系列具有超低摩擦系數(shù)的非晶碳涂層。使用DLC模塊,可以通過使用PVD和/或PACVD工藝來生成不同的DLC涂層。標(biāo)準(zhǔn)DLC涂層包括不含金屬或含金屬的碳基涂層。
優(yōu)勢:
●完美的涂層結(jié)合力
●高耐磨性
●低摩擦系數(shù)
●光滑的涂層
ta-C 就是不含氫的四面體非晶碳,指的是一組極硬、低摩擦的非晶碳涂層。使用ta-C模塊可以生產(chǎn)不同的ta-C涂層。
優(yōu)勢:
●適用于比DLC更高的溫度環(huán)境
●非常高的耐磨性
●完美的涂層結(jié)合力
●光滑的涂層

Product Advantage.

產(chǎn)品特點(diǎn)
HCSH系列類金剛石DLC涂層設(shè)備包括以下關(guān)鍵功能:
  • 結(jié)構(gòu)緊湊

    占地面積小,易于集成到工廠

  • 一致性

    整個腔室中均勻的鍍膜沉積速率

  • 簡單

    易于操作維護(hù)

  • 模塊化

    多種工藝技術(shù)靈活組合

  • DLC

    耐用類金剛石涂層鍍膜

  • 監(jiān)控

    本地或遠(yuǎn)程監(jiān)控鍍膜過程

型號 HCSH-400
有效等離子區(qū)域 D400×H450mm
最高工作溫度 550℃
技術(shù)特點(diǎn) PMAⅡ
EFC
AEG
HIPIMS
預(yù)處理 ARC, AEG, DC, MF, HIPIMS
陰極 D120 / D160 / W125
真空條件 極限真空≤5×10-4Pa
工作真空≤5×10-3Pa
工藝周期 關(guān)門到開門4~5h
TiN:2~2.5um
TiAlN:2~2.5um
TiSiN:2~3.5um
設(shè)備配置 磁懸浮分子泵
脈沖偏壓電源
PC智能控制系統(tǒng)
標(biāo)準(zhǔn)轉(zhuǎn)架 D140×4軸
最大裝載量 200KG
備注 選用濺射(UBM,RF等)有效高度會適當(dāng)減小
在線服務(wù)支持系統(tǒng)

Application cases.

應(yīng)用案例
型號 HCSH-650
有效等離子區(qū)域 D650×H750mm
最高工作溫度 550℃
技術(shù)特點(diǎn) PMAⅡ
EFC
AEG
HIPIMS
預(yù)處理 ARC, AEG, DC, MF, HIPIMS
陰極 D120 / D160 / W125
真空條件 極限真空≤5×10-4Pa
工作真空≤5×10-3Pa
工藝周期 關(guān)門到開門5~8h
TiN:2~2.5um
TiAlN:2~2.5um
TiSiN:2~3.5um
設(shè)備配置 磁懸浮分子泵
脈沖偏壓電源
PC智能控制系統(tǒng)
標(biāo)準(zhǔn)轉(zhuǎn)架 D140×8軸
最大裝載量 500KG
備注 選用濺射(UBM,RF等)有效高度會適當(dāng)減小
在線服務(wù)支持系統(tǒng)

Application cases.

應(yīng)用案例
型號 HCSH-900
有效等離子區(qū)域 D900×H1200mm
最高工作溫度 550℃
技術(shù)特點(diǎn) PMAⅡ
EFC
AEG
HIPIMS
預(yù)處理 ARC, AEG, DC, MF, HIPIMS
陰極 D120 / D160 / W125
真空條件 極限真空≤5×10-4Pa
工作真空≤5×10-3Pa
工藝周期 關(guān)門到開門7~10h
TiN:2~2.5um
TiAlN:2~2.5um
TiSiN:2~3.5um
設(shè)備配置 磁懸浮分子泵×2
脈沖偏壓電源
PC智能控制系統(tǒng)
標(biāo)準(zhǔn)轉(zhuǎn)架 D140×12軸
最大裝載量 500KG
備注 選用濺射(UBM,RF等)有效高度會適當(dāng)減小
在線服務(wù)支持系統(tǒng)

Application cases.

應(yīng)用案例
型號 HCSH-1800
有效等離子區(qū)域 D900×H1500mm
最高工作溫度 550℃
技術(shù)特點(diǎn) PMAⅡ
EFC
AEG
HIPIMS
預(yù)處理 ARC, AEG, DC, MF, HIPIMS
陰極 D120 / D160 / W125
真空條件 極限真空≤5×10-4Pa
工作真空≤5×10-3Pa
工藝周期 關(guān)門到開門7~10h
TiN:2~2.5um
TiAlN:2~2.5um
TiSiN:2~3.5um
設(shè)備配置 磁懸浮分子泵×2
脈沖偏壓電源
PC智能控制系統(tǒng)
標(biāo)準(zhǔn)轉(zhuǎn)架 D140×12軸
最大裝載量 500KG
備注 選用濺射(UBM,RF等)有效高度會適當(dāng)減小
在線服務(wù)支持系統(tǒng)

Application cases.

應(yīng)用案例
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郵箱:office@hcvac.com

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