午夜婷婷国产麻豆精品_欧美日韩全裸一级录相_宅男噜噜噜66在线播放_午夜影院免费试看普通用户_大尺度av污污福利_国产a级一片男女牲交_91性爱视频在线观看_久久国产精品tv_亚洲图片中文字幕乱伦_亚洲无码中文字幕视频

HCSH系列

功能性薄膜

涂層設(shè)備

Functional film coating equipment
真空應(yīng)用解決方案提供商
首頁(yè) > 功能設(shè)備 > 定制功能性涂層設(shè)備
Custom functional coating equipment 定制功能性涂層設(shè)備

您自己公司的涂層專家:公司涂層生產(chǎn)的全套解決方案

      通過(guò)由涂層設(shè)備和全方位的服務(wù)組成的完整的產(chǎn)品包,匯成確保您輕松進(jìn)入涂層世界。從這里開始,我們將針對(duì)您的需求調(diào)整我們的技術(shù)以實(shí)現(xiàn)兩者的最優(yōu)匹配。

      針對(duì)每一個(gè)客戶,我們都量身訂做個(gè)性化涂層解決方案,并將其融入您已有的涂層設(shè)備中,以方便您利用已有的涂層設(shè)備和涂層系統(tǒng),將整套新的制造工藝與您的需求相結(jié)合,確保生產(chǎn)的快速和高效。

      作為您的項(xiàng)目合作伙伴,匯成承擔(dān)為您制定全套涂層解決方案的責(zé)任。我們的客戶服務(wù)團(tuán)隊(duì)將針對(duì)項(xiàng)目進(jìn)度、場(chǎng)地布置和接口管理提供詳細(xì)的規(guī)劃,針對(duì)不同國(guó)家的具體情況提供詳盡的澄清,如需要,也可在您與社會(huì)公共機(jī)構(gòu)溝通時(shí)為您提供相應(yīng)的支持服務(wù),最終將向您提供一個(gè)完工的、可以隨時(shí)投產(chǎn)的涂層生產(chǎn)廠。

PVD工具鍍,初次涉足者的機(jī)遇

      通過(guò)提高工具表面的硬度而提高耐摩擦能力和耐氧化能力,PVD涂層正得到越來(lái)越廣泛地應(yīng)用。PVD(物理氣相沉積)技術(shù)不僅是對(duì)環(huán)境無(wú)污染,而且能夠充分地提高工具的生產(chǎn)能力。PVD行業(yè)是近來(lái)快速發(fā)展的行業(yè),并且也是利潤(rùn)可觀的行業(yè)。所以,越來(lái)越多的商業(yè)涂層商,修磨中心和工具制造廠家投資PVD設(shè)備。

工具修磨商和制造商

      對(duì)于工具修磨商和制造商而言,操作的快速性和靈活性是很重要的,這也是在競(jìng)爭(zhēng)中勝出競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手的一個(gè)方法。對(duì)于商業(yè)鍍膜服務(wù)商而言,夜間自動(dòng)生產(chǎn)成為可能。采用自主的PVD鍍膜設(shè)備,工具制造商能夠更好的控制工具產(chǎn)品質(zhì)量。諸多優(yōu)點(diǎn)促進(jìn)了PVD技術(shù)的使用。

容易掌握

      對(duì)于很多不熟悉PVD的人來(lái)說(shuō),PVD似乎很復(fù)雜。然而,如果能夠正確的投資并得到有力的支持,PVD比想象的要容易的多。匯成真空開發(fā)的“交鑰匙”解決方案,使得PVD鍍膜生產(chǎn)很容易地實(shí)現(xiàn)。完整的鍍膜生產(chǎn)線包括:脫膜(視工件情況而定);前處理;質(zhì)量控制;清洗&烘干;裝夾&目測(cè)檢驗(yàn);鍍膜;質(zhì)量控制&厚度測(cè)量及后處理(視具體應(yīng)用)。這些工序都可以來(lái)源于同一個(gè)供貨商的解決方案:匯成真空技術(shù)鍍層,包括成熟的工藝技術(shù)和鍍層。


主要模塊
Arc HiPIMS
創(chuàng)新的APA蒸發(fā)器技術(shù)(先進(jìn)的等離子輔助)基于陰極真空電弧,為新的層結(jié)構(gòu)提供了多種開發(fā)可能性。
優(yōu)勢(shì):
●靶材使用率高,降低靶材成本
●沉積率高
●磁場(chǎng)可調(diào)節(jié)
●靶材更換時(shí)間短
●等離子體密度高
●完美的涂層結(jié)合力
HiPIMS代表高功率脈沖磁控濺射。
優(yōu)勢(shì):
●離化率高(類似于電弧法)
●高功率密度,從 100 到1000 W/cm2
●等離子密度非常高
●可以通過(guò)等離子參數(shù)設(shè)置來(lái)調(diào)節(jié)層結(jié)構(gòu)
●涂層非常光滑
●完美的涂層結(jié)合力
●在低基材溫度下沉積致密的涂層
其他模塊
濺射 氮化
在濺射工藝中,通過(guò)高能離子(Ar)轟擊靶材,分離成原子進(jìn)而轉(zhuǎn)化成氣相。通過(guò)結(jié)合濺射材料和其他氣體,將涂層沉積在基材上。
優(yōu)勢(shì):
●可以濺射多種材料
●多種工藝變量可用
●光滑的涂層
●結(jié)合功率刻蝕工藝AEGD獲得好的涂層結(jié)合力
使用氮化模塊,可在同一個(gè)系統(tǒng)、同一個(gè)批次,在PVD和/或PACVD涂層工藝之前進(jìn)行等離子氮化工藝。由此生成一個(gè)硬化層,為后續(xù)的PVD/PACVD涂層提供完美的支撐。
優(yōu)勢(shì):
●優(yōu)化工具和零部件屬性
●替代昂貴的基材
●顯著延長(zhǎng)壽命
●可以應(yīng)用所有PVD涂層
DLC ta-C
DLC就是類金剛石涂層,指一系列具有超低摩擦系數(shù)的非晶碳涂層。使用DLC模塊,可以通過(guò)使用PVD和/或PACVD工藝來(lái)生成不同的DLC涂層。標(biāo)準(zhǔn)DLC涂層包括不含金屬或含金屬的碳基涂層。
優(yōu)勢(shì):
●完美的涂層結(jié)合力
●高耐磨性
●低摩擦系數(shù)
●光滑的涂層
ta-C 就是不含氫的四面體非晶碳,指的是一組極硬、低摩擦的非晶碳涂層。使用ta-C模塊可以生產(chǎn)不同的ta-C涂層。
優(yōu)勢(shì):
●適用于比DLC更高的溫度環(huán)境
●非常高的耐磨性
●完美的涂層結(jié)合力
●光滑的涂層

Product Advantage.

產(chǎn)品特點(diǎn)
HCSH系列功能性薄膜涂層設(shè)備包括以下關(guān)鍵功能:
  • 定制化

    量身訂做個(gè)性化涂層解決方案

  • 一致性

    整個(gè)腔室中均勻的鍍膜沉積速率

  • 簡(jiǎn)單

    易于操作維護(hù)

  • 模塊化

    多種工藝技術(shù)靈活組合

  • 低溫

    低溫工藝適合金屬和塑料部件

  • 監(jiān)控

    本地或遠(yuǎn)程監(jiān)控鍍膜過(guò)程

型號(hào) HCSH-400
有效等離子區(qū)域 D400×H450mm
最高工作溫度 550℃
技術(shù)特點(diǎn) PMAⅡ
EFC
AEG
HIPIMS
預(yù)處理 ARC, AEG, DC, MF, HIPIMS
陰極 D120 / D160 / W125
真空條件 極限真空≤5×10-4Pa
工作真空≤5×10-3Pa
工藝周期 關(guān)門到開門4~5h
TiN:2~2.5um
TiAlN:2~2.5um
TiSiN:2~3.5um
設(shè)備配置 磁懸浮分子泵
脈沖偏壓電源
PC智能控制系統(tǒng)
標(biāo)準(zhǔn)轉(zhuǎn)架 D140×4軸
最大裝載量 200KG
備注 選用濺射(UBM,RF等)有效高度會(huì)適當(dāng)減小
在線服務(wù)支持系統(tǒng)

Application cases.

應(yīng)用案例
型號(hào) HCSH-650
有效等離子區(qū)域 D650×H750mm
最高工作溫度 550℃
技術(shù)特點(diǎn) PMAⅡ
EFC
AEG
HIPIMS
預(yù)處理 ARC, AEG, DC, MF, HIPIMS
陰極 D120 / D160 / W125
真空條件 極限真空≤5×10-4Pa
工作真空≤5×10-3Pa
工藝周期 關(guān)門到開門5~8h
TiN:2~2.5um
TiAlN:2~2.5um
TiSiN:2~3.5um
設(shè)備配置 磁懸浮分子泵
脈沖偏壓電源
PC智能控制系統(tǒng)
標(biāo)準(zhǔn)轉(zhuǎn)架 D140×8軸
最大裝載量 500KG
備注 選用濺射(UBM,RF等)有效高度會(huì)適當(dāng)減小
在線服務(wù)支持系統(tǒng)
型號(hào) HCSH-900
有效等離子區(qū)域 D900×H1200mm
最高工作溫度 550℃
技術(shù)特點(diǎn) PMAⅡ
EFC
AEG
HIPIMS
預(yù)處理 ARC, AEG, DC, MF, HIPIMS
陰極 D120 / D160 / W125
真空條件 極限真空≤5×10-4Pa
工作真空≤5×10-3Pa
工藝周期 關(guān)門到開門7~10h
TiN:2~2.5um
TiAlN:2~2.5um
TiSiN:2~3.5um
設(shè)備配置 磁懸浮分子泵×2
脈沖偏壓電源
PC智能控制系統(tǒng)
標(biāo)準(zhǔn)轉(zhuǎn)架 D140×12軸
最大裝載量 500KG
備注 選用濺射(UBM,RF等)有效高度會(huì)適當(dāng)減小
在線服務(wù)支持系統(tǒng)

Application cases.

應(yīng)用案例
型號(hào) HCSH-1800
有效等離子區(qū)域 D900×H1500mm
最高工作溫度 550℃
技術(shù)特點(diǎn) PMAⅡ
EFC
AEG
HIPIMS
預(yù)處理 ARC, AEG, DC, MF, HIPIMS
陰極 D120 / D160 / W125
真空條件 極限真空≤5×10-4Pa
工作真空≤5×10-3Pa
工藝周期 關(guān)門到開門7~10h
TiN:2~2.5um
TiAlN:2~2.5um
TiSiN:2~3.5um
設(shè)備配置 磁懸浮分子泵×2
脈沖偏壓電源
PC智能控制系統(tǒng)
標(biāo)準(zhǔn)轉(zhuǎn)架 D140×12軸
最大裝載量 500KG
備注 選用濺射(UBM,RF等)有效高度會(huì)適當(dāng)減小
在線服務(wù)支持系統(tǒng)
您想要了解更多嗎?

電話:13316689188

郵箱:office@hcvac.com

Online Message.

在線留言
提交