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連續(xù)鍍膜生產(chǎn)線
該系列設(shè)備主要用于平板玻璃、壓克力、PC、PET等基板上鍍各種金屬膜，介質(zhì)膜，介質(zhì)金屬?gòu)?fù)合膜，透明導(dǎo)電膜，CF等膜層。
本設(shè)備廣泛運(yùn)用在太陽(yáng)能電池上，透明導(dǎo)電膜作為減反射層和透明電極使用，可以提高太陽(yáng)能的轉(zhuǎn)換效率，降低成本，無(wú)毒環(huán)保，膜層穩(wěn)定，同時(shí)可以消除立式生產(chǎn)線無(wú)法大規(guī)模生產(chǎn)的弊端，可以大大提高生產(chǎn)量。
該設(shè)備可鍍制半導(dǎo)體芯片中的光掩膜基板，EMI封裝，配備除氣、等離子體處理、濺射等模塊，標(biāo)準(zhǔn)化和模塊化設(shè)計(jì)理念，高客制化，兼顧產(chǎn)品規(guī)格與低投資成本需求，關(guān)鍵部件采用進(jìn)口配件，保障設(shè)備穩(wěn)定。
該設(shè)備專(zhuān)為鍍制釹鐵硼等磁性材料而設(shè)計(jì)，配置旋轉(zhuǎn)陰極提高靶材利用率，配備貴金屬回收設(shè)計(jì)，有效控制生產(chǎn)成本。
該設(shè)備通過(guò)磁控濺射方式鍍制DLC硬膜，莫式硬度大于8，鉛筆硬度大于9H，薄膜硬度接近于藍(lán)寶石玻璃，薄膜透過(guò)率大于99.4%，鋼絲絨耐磨（@1KG 10mm×10mm>8000次）無(wú)劃痕，橡皮擦+酒精耐磨>5000次無(wú)損傷，可與AF有效良好結(jié)合。
本系列設(shè)備采用多弧離子鍍具有本征顏色的材料后，加以磁控濺射光學(xué)薄膜，對(duì)特定波段的光進(jìn)行強(qiáng)化和弱化，從而組合出任何顏色。
該生產(chǎn)線被廣泛用于建筑裝飾領(lǐng)域的建筑玻璃產(chǎn)品。它是一種鍍膜玻璃，是采用磁控濺射的方式在玻璃上鍍各種金屬，從而形成可見(jiàn)光反射的玻璃，能夠反射大部分的可見(jiàn)光，在夏季也能阻隔室內(nèi)物體受太陽(yáng)照射變熱，從而發(fā)揮節(jié)能降耗目的。同時(shí)，大面積反射鏡生產(chǎn)線，可以采用不同的金屬形成不同的反射色彩，是各種裝飾行業(yè)首選的建筑玻璃。
該系列設(shè)備可連續(xù)的對(duì)電致變色玻璃進(jìn)行多層鍍膜，鍍膜分為五層：透明導(dǎo)電層、電致變色層、離子導(dǎo)體層、離子貯藏層、透明導(dǎo)電層，通過(guò)真空磁控濺射鍍膜技術(shù)，將金屬鎢、鋰等金屬、非金屬材料濺射到玻璃表面。
Low-E玻璃磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線，主要用于單、雙銀低輻射玻璃鍍膜，以及可鋼化單、雙銀低輻射玻璃鍍膜。用于節(jié)能建筑的幕墻及門(mén)窗玻璃，能夠隔熱節(jié)能，防治光污染。
該設(shè)備是一款大型平面磁控濺射連續(xù)生產(chǎn)設(shè)備，采用模塊化設(shè)計(jì)，方便日后擴(kuò)展升級(jí)；配備多組大型磁控陰極，可適用于多種膜系結(jié)構(gòu)的組合；全自動(dòng)化控制，高穩(wěn)定性傳動(dòng)系統(tǒng)，可與機(jī)械手無(wú)縫對(duì)接，實(shí)現(xiàn)連續(xù)穩(wěn)定的流水線作業(yè)；生產(chǎn)節(jié)拍快，產(chǎn)量大。
HCVAC將碳基涂層工藝和真空鍍膜設(shè)備技術(shù)的長(zhǎng)期經(jīng)驗(yàn)應(yīng)用于燃料電池金屬雙極板，通過(guò)等離子體表面清潔和特殊結(jié)合層工藝，獲得結(jié)合力、導(dǎo)電性和耐腐蝕性良好的貴金屬涂層和SCG涂層。
HCVAC-PVD
