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HCINLINE系列

AR+DLC+AS硬膜技術(shù)

AR+DLC+AS hard coating Technology
真空應(yīng)用解決方案提供商
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AR+DLC+AF continuous magnetron sputtering coating line AR+DLC+AF連續(xù)鍍膜生產(chǎn)線

     該設(shè)備通過磁控濺射方式鍍制DLC硬膜,莫式硬度大于8,鉛筆硬度大于9H,薄膜硬度接近于藍(lán)寶石玻璃,薄膜透過率大于99.4%,鋼絲絨耐磨(@1KG 10mm×10mm>8000次)無劃痕,橡皮擦+酒精耐磨>5000次無損傷,可與AF有效良好結(jié)合。

      該系列設(shè)備具備多種DLC涂層沉積技術(shù),模塊化的涂層設(shè)備設(shè)計(jì),可根據(jù)客產(chǎn)品應(yīng)用需求,單獨(dú)或組合過濾陰極電弧,閉合場(chǎng)磁控濺射,PACVD和離子源技術(shù)模塊于DLC沉積設(shè)備,適用于多種科學(xué)研究,產(chǎn)品開發(fā)和批量生產(chǎn)的要求。技術(shù)先進(jìn),操作方便,能量消耗少,綠色環(huán)保等特點(diǎn),廣泛應(yīng)用于機(jī)械,電子,光學(xué),能源,裝飾等領(lǐng)域。

      HCVAC開發(fā)的DLC涂層,具有良好的附著性,高的硬度和耐磨性,低的摩擦系數(shù),低的表面粗糙度,能在多種金屬與合金工模具或零件表面沉積DLC涂層。獨(dú)特的低溫涂層技術(shù),還能適用于在塑膠等不耐高溫的材料上沉積DLC涂層。

      DLC涂層具有較高的硬度、優(yōu)異的減摩耐磨性能、高熱導(dǎo)率、低介 電常數(shù)、寬帶隙、良好的光學(xué)透過性以及優(yōu)異的化學(xué)惰性和生物兼容性等,在航空航天、機(jī)械、電子、光學(xué)、裝飾外觀保護(hù)、生物醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域有著廣闊的應(yīng)用前景。DLC涂層適合于磨損和滑動(dòng)的環(huán)境下,在沒有任何潤(rùn)滑介質(zhì)的條件下,可以降低摩擦損耗,可以用于汽車發(fā)動(dòng)機(jī)零部件(燃油噴射系統(tǒng)、動(dòng)力傳動(dòng)系統(tǒng))、軸承、滾輪、紡織機(jī)械、航空航天等眾多領(lǐng)域。


優(yōu)勢(shì):

?采用閉環(huán)控制器的高反應(yīng)濺射率
?出色的氣體分離技術(shù)
?靈活配置以滿足特定的生產(chǎn)需求
?3、5或7倍微調(diào)氣體分布以提高涂層均勻性
?優(yōu)化的磁性配置,具有出色的均勻性和利用率
?兼容工業(yè)機(jī)器人的自動(dòng)裝卸

Product Advantage.

產(chǎn)品特點(diǎn)
HCINLINE系列AR+DLC+AS連續(xù)磁控濺射鍍膜線包括以下關(guān)鍵功能:
  • 立式

    垂直系統(tǒng)配置,粒子碰撞最低

  • DLC

    耐用類金剛石涂層鍍膜

  • 溫控

    基板表面進(jìn)行卓越的溫度控制

  • 模塊化

    多種工藝技術(shù)靈活組合

  • 開放

    在軌道系統(tǒng)上完全打開垂直腔室

  • 一致性

    整個(gè)腔室中均勻的鍍膜沉積速率

項(xiàng)目 性能
最高工作溫度 550℃
技術(shù)特點(diǎn) PMAⅡ
AEG
HIPIMS
預(yù)處理 ARC, AEG, DC, MF, HIPIMS
陰極 D120 / D160 / W125
真空條件 極限真空≤5×10-4Pa
工作真空≤5×10-3Pa
設(shè)備配置 磁懸浮分子泵
脈沖偏壓電源
PC智能控制系統(tǒng)
備注 選用濺射(UBM,RF等)有效高度會(huì)適當(dāng)減小
在線服務(wù)支持系統(tǒng)
您想要了解更多嗎?

電話:13316689188

郵箱:office@hcvac.com

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