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HCINLINE系列

半導(dǎo)體芯片鍍膜

Semiconductor chip coating
真空應(yīng)用解決方案提供商
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Semiconductor continuous coating equipment 半導(dǎo)體連續(xù)式鍍膜設(shè)備

      該設(shè)備可鍍制半導(dǎo)體芯片中的光掩膜基板,EMI封裝,配備除氣、等離子體處理、濺射等模塊,標(biāo)準(zhǔn)化和模塊化設(shè)計(jì)理念,高客制化,兼顧產(chǎn)品規(guī)格與低投資成本需求,關(guān)鍵部件采用進(jìn)口配件,保障設(shè)備穩(wěn)定。

應(yīng)用行業(yè):

TFT-LCD、CF、CSTN-LCD、STN-LCD、TN-LCD、EL、OLED、PDP、VFD等平板顯示行業(yè);

HDI、FPC等印制線路板行業(yè);

IC Bumping、IC基板、導(dǎo)線架等IC相關(guān)行業(yè);

MENS、SENSOR和ENODER等精細(xì)電子元器件行業(yè)。


優(yōu)勢(shì):

?采用閉環(huán)控制器的高反應(yīng)濺射率
?出色的氣體分離技術(shù)
?靈活配置以滿足特定的生產(chǎn)需求
?3、5或7倍微調(diào)氣體分布以提高涂層均勻性
?優(yōu)化的磁性配置,具有出色的均勻性和利用率
?兼容工業(yè)機(jī)器人的自動(dòng)裝卸

Product Advantage.

產(chǎn)品特點(diǎn)
HCINLINE系列半導(dǎo)體連續(xù)式鍍膜設(shè)備包括以下關(guān)鍵功能:
  • 臥式

    基材可選性更廣

  • 一致性

    整個(gè)腔室中均勻的鍍膜沉積速率

  • 溫控

    基板表面進(jìn)行卓越的溫度控制

  • 模塊化

    多種工藝技術(shù)靈活組合

  • 客制化

    兼顧產(chǎn)品規(guī)格與低投資成本需求

  • 遠(yuǎn)程訪問(wèn)

    提供工廠遠(yuǎn)程診斷

項(xiàng)目

性能

基材

玻璃

工件尺寸

根據(jù)客戶需求

托盤(pán)尺寸

1400mm×800mm

節(jié)拍

根據(jù)客戶需求定制

薄膜材料

Si、Cr及其化合物

薄膜均勻性

≤±2%

稼動(dòng)率

≥90%

項(xiàng)目

性能

制膜種類 EMI防電磁干擾屏蔽膜、裝飾膜等
電源類型 直流磁控電源+高壓離子轟擊電源
圓柱靶 直流磁控靶(無(wú)氧銅靶+不繡鋼靶)
真空系統(tǒng) 機(jī)械泵+羅茨泵+擴(kuò)散泵+維持泵(或選配:分子泵、深冷系統(tǒng))
充氣系統(tǒng) 質(zhì)量流量控制儀(1-3路)
極限真空 6×10-4pa(空載、凈室)
抽氣時(shí)間 空載大氣抽至5×10-3pa小于6分鐘
控制方式 手動(dòng)+半自動(dòng)+全自動(dòng)一體化/觸摸屏+PLC
備注 真空室尺寸可按客戶產(chǎn)品及特殊工藝要求訂做

Application cases.

應(yīng)用案例
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電話:13316689188

郵箱:office@hcvac.com

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