客戶群體
半導(dǎo)體及相關(guān)配套生產(chǎn)廠商、PVD鍍膜加工企業(yè)
鍍膜線解決方案
半導(dǎo)體及相關(guān)配套生產(chǎn)廠商、PVD鍍膜加工企業(yè)
為企業(yè)提供PVD鍍膜設(shè)備和鍍膜工藝技術(shù)
針對(duì)半導(dǎo)體行業(yè)產(chǎn)品的特點(diǎn)和不斷增長(zhǎng)的客戶需求，不斷開發(fā)出多種設(shè)備技術(shù)和鍍膜工藝
光掩膜是刻有微電路的高精度版，由表面純平并帶有一層鉻的石英板或玻璃板制作而成，蝕刻后的殘留鉻部分即為設(shè)計(jì)的微電圖。這種制版方式在掩膜行業(yè)稱為光透。
光掩膜用于芯片制造，主要是IC（集成電路）芯片，還應(yīng)用于制作純平顯示器、薄膜磁頭以及PC板等。
光掩膜所起的作用類似于底片之于相片，光刻通過光掩膜在芯片上顯影。如果圖形通過掩膜版在芯片兩面多次顯影，這種方法就是熟稱的曝光，這個(gè)時(shí)候的掩膜也可稱為光罩。
在平整的玻璃板上鍍上金屬鉻薄膜，通過類似照相制版的方法制備，其制作過程就是典型的光刻工藝過程，包括金屬PVD沉積、涂膠、電子束光刻、顯影、鉻層腐蝕及去膠等過程。
鉻版主要應(yīng)用于：
TFT-LCD、CF、CSTN-LCD、STN-LCD、TN-LCD、EL、OLED、PDP、VFD等平板顯示行業(yè)；
HDI、FPC等印制線路板行業(yè)；
IC Bumping、IC基板、導(dǎo)線架等IC相關(guān)行業(yè)；
MENS、SENSOR和ENODER等精細(xì)電子元器件行業(yè)。
鍍膜現(xiàn)場(chǎng)
鍍膜現(xiàn)場(chǎng)
鍍膜現(xiàn)場(chǎng)
HCVAC-PVD
