Capacitor roll to roll vacuum coating equipment 電容器卷繞真空鍍膜設備
HCCAP系列設備可滿足無限制范圍的電容器金屬化膜的要求，在真空狀態(tài)下，將鋁或鋅鋁蒸鍍到薄膜的表面。從標準到高端應用，從厚膜到薄膜，從平面設計到分段設計，從厚層到薄層，從純層到疊層，所有可能的組合都可以在一個系統(tǒng)中實現(xiàn)。帶有多個選項和專有組件的模塊化概念使HCCAP系列成為批量生產的標準產品以及諸如超薄膠片和分段圖案等高度復雜應用的首選系統(tǒng)。
隨著電子器件在日常產品和工業(yè)中的應用越來越多，薄膜電容器的許多新應用已經開發(fā)出來，它們必須在功能、精度和使用壽命方面達到最高標準，這與小型化的要求直接相關。通過使用最薄的薄膜可以減少重量和空間。這些高科技材料的加工，加上精密的層剖面沉積和分割，需要具有高度創(chuàng)新性、自動化和再現(xiàn)性的生產設備。
HCCAP系列設備具有高度的創(chuàng)新性，自動化性和可重復性，鍍制的薄膜可滿足這些應用功能、精度和使用壽命方面的最高標準。該系統(tǒng)的靈活性是成功的關鍵，復雜的單個組件，集成到模塊化機器概念，使差異，并允許優(yōu)化的擁有成本，高生產力。
質量控制技術，超偏壓技術用于邊緣，特殊產品，基于柔性版印刷系統(tǒng)用于高精度分割，基于閃蒸的自由邊緣油蒸發(fā)器用于均勻邊緣生成，所有這些都與一個強大的設計相結合，用于大量生產各種產品。
HCCAP系列廣泛應用于電子移動、智能電網、可再生能源、建筑和許多其他領域。
優(yōu)勢：
?采用ISS技術進行100％原位質量控制
?強大的等離子預處理功能，具有很高的產品一致性和層粘附性
?創(chuàng)新的蒸發(fā)器設計和布置可實現(xiàn)無與倫比的層均勻性
?先進的掩膜技術可實現(xiàn)高精度和可重現(xiàn)的產品質量
